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MIRA 第四代场发射扫描电子显微镜

MIRA 是 TESCAN 推出的第四代高性能扫描电子显微镜，配置有高亮度肖特基场发射电子枪，在Essence? 操作软件的同一个窗口中实现了 SEM 成像和实时元素剖析。这种结合大大简化了从样品中获取形貌和元素数据的历程，从而使得MIRA 成为质量控制、失效剖析和实验室通例质料检测的有效剖析解决计划。

MIRA 具有立异的光学设计，确保在需要时可以随时无缝地选择成像或剖析条件，而无需对镜筒内的任何元件重新进行机械对中
；借助完全集成的 Essence? EDS 软件，可以快速、轻松地从成像切换到剖析操作模式，一键即可实现设置参数的更改。

主要特点

■完全集成的 Essence? EDS 剖析平台

在 Essence? 软件的同一个窗口中实现 SEM 成像和实时元素剖析
；

拥有无光阑光路设计及实时电子束追踪技术(In-Flight Beam Tracing?)，可快速获得理想的成像和剖析条件
；

大视野光路（Wide Field Optics?）设计，可实现放大倍率低至2倍，因而无需特另外光学导航相机，即可轻松对样品进行定位导航
；

标配的 SingleVac? 模式，不导电样品或电子束敏感样品无需喷镀即可在此模式下直接进行视察
；直观的�？榛� Essence? 软件，无论用户的经验水平如何，均可轻松操作
；

■Essence? 3D 防碰撞模型

可确保样品台和样品移动时装置在样品室内探测器的宁静
；

可选配的镜筒内 SE 和 BSE 探测器，以及电子束减速技术，更好的提升了低电压下的成像性能
；

标准剖析平台，可选配集成多种探测器和附件（如阴极荧光探测器，水冷背散射电子探测器或拉曼光谱仪等）。

■中间镜设计

MIRA 的镜筒中增加了一个特殊的透镜，使得电子束斑尺寸更小，进而提升大束流下的区分率。这个奇特的透镜--中间镜 (Intermediate  Lens?) 结合电子束追踪技术(In-Fight Beam Tracing?)，可确保操作者设定的束流值与真实作用在样品上的束流相一致。这关于需要大束流下进行的剖析应用如EDS/EBSD/WDS等，以及必须在相同条件下进行重复实验或表征的需求尤其重要。

■更多的探测器和附件

MIRA  可以装置种种附件以满足特定的应用需求，同时还可以选配镜筒内 SE 和BSE 探测器以及电子束减速技术，进一步拓展了 MIRA 的剖析能力，满足目今和未来在亚微米标准的表征需求。选配镜筒内 SE 和 BSE 探测器后，即可同时获得包括样品室内SE、样品室内BSE、镜筒内SE及镜筒内BSE的4种差别衬度信号。电子束减速技术则可提升其成像能力，尤其是在低电压下的区分率。

■全新的 Essence^TM 电镜控制软件

接纳 Essence? 多用户电镜操作软件，具有快速搜索、操作办法取消/重做和预设参数等功效，实现更高效的样品剖析和表征。用户可以凭据实际操作水平或特殊应用需求的差别在软件中自界说界面结构。另外，Essence? 防碰撞模型软件虚拟出样品室内部，直观的显示样品室内的硬件的几何关系，样品台的巨细和位置，以及样品和装置的其它附件。

■立异的 SingleVac ^TM 模式

SingleVac? 模式是 MIRA 的标配功效，已为此模式预设了真空值，荷电样品无需喷镀也可以使用背散射电子探测器直接视察。同时还可以选配 UniVac? 模式，该模式下可连续调理真空度可达 700 Pa，用于极端放电、放气及电子束敏感样品的二次电子和背散射电子成像。

案例分享

▲（左） 在低真空下获得的钻石生长纹的阴极荧光图像 ， 可以判断为天然或合成钻石
；

（中 ）甲壳动物化石外貌形貌细节 ， 在 2 kV 下成像
；

（右） Scandian 地区矿物庞大共生关系的抗氧化物背散射电子图像。

▲SEM实时扫描窗口中，使用Essence?  EDS获得的石膏抛光界面上Ca（橙色）和Si（紫色）的面漫衍图